能源產(chǎn)品及廠家

供應(yīng)秦川熱工高速低氮燃燒器
高速低氮燃燒器（燒嘴）為硫化堿窯爐設(shè)計(jì)使用，可以實(shí)現(xiàn)低氮氧化物排放。高速低氮燃燒器（燒嘴）燃燒性能可以達(dá)到：火焰剛直、明亮，不會(huì)出現(xiàn)火焰偏燒等現(xiàn)象。
更新時(shí)間:2024-12-21
HMDS真空烤箱，全自動(dòng)HMDS預(yù)處理系統(tǒng)
hmds真空烤箱，全自動(dòng)hmds預(yù)處理系統(tǒng)通過對(duì)烤箱預(yù)處理過程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)可以在硅片、基片表面均勻涂布一層hmds，降低了hmds處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。
更新時(shí)間:2024-12-20
HMDS烤箱機(jī)臺(tái)，HMDS預(yù)處理烘箱
hmds烤箱機(jī)臺(tái)，hmds預(yù)處理烘箱箱體外殼采用高級(jí)不銹鋼制作，內(nèi)膽為316l醫(yī)用專用不銹鋼材料制成；加熱器均勻分布在內(nèi)膽外壁四周，內(nèi)膽內(nèi)無任何電氣配件及易燃易爆裝置。鋼化、防彈雙層玻璃門觀察工作室內(nèi)物體一目了然。
更新時(shí)間:2024-12-20
硅片光刻預(yù)處理系統(tǒng)，芯片hmds烘箱
硅片光刻預(yù)處理系統(tǒng)，芯片hmds烘箱用于芯片、晶圓、硅片等半導(dǎo)體在光刻前對(duì)wafer進(jìn)行預(yù)處理,在高溫高真空的狀態(tài)下均勻噴灑霧狀“oap”藥液并在氮?dú)獗Ｗo(hù)下烘干以增強(qiáng)wafer的光刻性能。通過對(duì)烤箱預(yù)處理過程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)可以在硅片、基片表面均勻涂布一層hmds，降低了hmds處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。
更新時(shí)間:2024-12-20

最新產(chǎn)品

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