光學平臺產(chǎn)品及廠家
日本rion氣體粒子計數(shù)器：ka-02( 光散射方式）,多點監(jiān)視用粒子計數(shù)器，測試粒徑（2個通道）：≥0.3μm ， ≥0.5μm，大粒子數(shù)濃度：140 000 000顆/l （誤差值低于10%）
更新時間:2024-12-20
日本rion氣體粒子計數(shù)器：ka-03( 光散射方式）,多點監(jiān)視用粒子計數(shù)器，測試粒徑（5個通道）：≥0.3μm ， ≥0.5μm ，≥1μm ， ≥2μm ，≥5μm ，大粒子數(shù)濃度：140 000 000顆/l （誤差值低于10%）
更新時間:2024-12-20
日本rion氣體粒子計數(shù)器：ka-82( 光散射方式）,多點監(jiān)視用粒子計數(shù)器，測試粒徑（5個通道）：≥0.1μm ， ≥0.15μm， ≥0.2μm ， ≥0.3μm ， ≥0.5μm ，大粒子數(shù)濃度：10 000顆/l （誤差值低于5%）
更新時間:2024-12-20
玻璃去油墨設備,采用訂制紫外納激光器對玻璃表面進行去油墨以及油墨微加工， 將產(chǎn)品損傷降至低。
更新時間:2024-12-20
oai 800型光學正面和背面光刻機系統(tǒng), 是半自動,four-camera、光學正面和背面光刻機。它提供其精確的(1碌m - 2 m碌)對準精度,旨在大大超過任何紅外背后對準器性能的一個非常有競爭力的價格。通用模型800光刻機是理想的用于低產(chǎn)量、研發(fā)實驗室和大學。
更新時間:2024-12-20
瑞士nanofrazor 3d納米結(jié)構(gòu)高速直寫機，源于發(fā)明stm和afm的ibm蘇黎世研發(fā)中心，是其在納米加工技術的新研究成果。nanofrazor納米3d結(jié)構(gòu)直寫機第 一次將納米尺度下的3d結(jié)構(gòu)直寫工藝快速化、穩(wěn)定化。
更新時間:2024-12-20
nanoarch科研3d打印機m160 ，本套系統(tǒng)創(chuàng)新地使用了自動化的多材料送料系統(tǒng)，兼顧高精度和多材料打印，可支持同時打印4種樹脂基復合材料進行層間或?qū)觾?nèi)多材料3d打印，適用于基礎理論驗證及原理創(chuàng)新研究，非常適合高校和研究機構(gòu)用于科學研究及應用創(chuàng)新。其主要應用在點陣結(jié)構(gòu)材料、功能梯度材料、超材料、復合材料、復雜微流控，多材料4d打印等方面。
更新時間:2024-12-20
nanoarch微納3d打印機 p130/s130 ，科研3d打印系統(tǒng)，擁有2μm的超高打印精度和5μm的超低打印層厚，從而實現(xiàn)超高精度的樣件制作，非常適合高校和研究機構(gòu)用于科學研究及應用創(chuàng)新。
更新時間:2024-12-20
nanoarch 3d打印機p140/s140 ，科研3d打印系統(tǒng)，擁有10μm的超高打印精度和10μm的超低打印層厚，從而實現(xiàn)超高精度的樣件制作，非常適合高校和研究機構(gòu)用于科學研究及應用創(chuàng)新。
更新時間:2024-12-20
理音rion kz-30uk采樣器，易于操作的室內(nèi)化學采樣器，當腔體壓力過高的時候， 可以排凈空氣，防止發(fā)生故障 ，設計簡單的化學防爆采樣器，kz-30uk的設計是可以為 離線測試的液體粒子計數(shù)器提供加壓。
更新時間:2024-12-20
美nano-master熱蒸鍍系統(tǒng)：nte-4000 獨立式電子束蒸鍍，nte-3500 緊湊型獨立式熱蒸鍍，nte-3000 雙蒸源臺式熱蒸鍍系統(tǒng)，nte-1000 簡便型熱蒸鍍。熱蒸鍍系統(tǒng)可以跟nano-master那諾-馬斯特的其它任意真空系統(tǒng)組成雙系統(tǒng)。
更新時間:2024-12-20
美nano-master磁控濺射系統(tǒng)：nsc-4000獨立式磁控濺射系統(tǒng)，可支持共濺射等能力的擴展nsc-3500緊湊型獨立式熱蒸鍍，可以支持金屬材料的dc濺射，介質(zhì)材料的rf濺射，以及脈沖dc濺射等應用。nsc-3000可支持多4個靶的dc濺射或rf濺射nsc-1000單金靶靶材的臺式濺射系統(tǒng)，不但可用于電鏡制備，也可以用于常規(guī)的金屬濺射
更新時間:2024-12-20
nano-master的等離子增強化學氣相沉積系統(tǒng)pecvd系統(tǒng)npe-4000,可以制造高質(zhì)量的氧化硅、氮化硅、碳納米管、金剛石和碳化硅等薄膜；蹇梢匀菁{8英寸晶圓，可通過射頻、脈沖直流或者直流電源提供偏壓，可通過熱電阻或者紅外燈加熱到800°c。ns
更新時間:2024-12-20
nano-master電子束蒸鍍系統(tǒng) nee-4000，可通過樣片掩膜實現(xiàn)組合蒸鍍，并可通過電腦控制單個電子束蒸鍍的蒸鍍速率。系統(tǒng)可支持共蒸鍍功能。能夠升支持自動上下片，以及手動或自動翻轉(zhuǎn)樣片實現(xiàn)雙面鍍膜。該系列的e-beam電子束蒸鍍系統(tǒng)，也可以跟磁控濺射
更新時間:2024-12-20
ibm離子銑/ibe離子束刻蝕系統(tǒng)：nie-4000 獨立式 ibe 刻蝕系統(tǒng)nie-3500 緊湊型獨立式 ibe 刻蝕系統(tǒng)nir-4000 獨立式 ibe / rie 雙刻蝕系統(tǒng)nie-3000 臺式 ibe 刻蝕系統(tǒng)nsc-3000可支持多4個靶的dc濺射或rf濺射
更新時間:2024-12-20
nano-master等離子清洗和灰化系統(tǒng)設計用于廣泛的需求，從批處理和單晶圓的光刻膠剝離到晶圓表面改性都可以涵蓋。這些系統(tǒng)通過計算機控制，可以配套不同的等離子源，加熱和不加熱的基片夾具，以及獨一無二的從等離子刻蝕切換到rie刻蝕模式的能力。$r
更新時間:2024-12-20
美nano-master ald/peald原子層沉積：nld-4000 獨立式ald系統(tǒng)nld-3500 緊湊型獨立式ald系統(tǒng)nld-3000 臺式ald系統(tǒng)
更新時間:2024-12-20
美nano-master rie反應離子刻蝕系統(tǒng)nrr-4000 獨立式雙rie或icp刻蝕系統(tǒng)nre-4000 獨立式rie或icp系統(tǒng)nre-3000 臺式rie系統(tǒng)ndr-4000 深硅刻蝕系統(tǒng)
更新時間:2024-12-20
美nano-master 熱真空太空模擬系統(tǒng) ndt-4000,是一款器件測試系統(tǒng)，俗稱“熱真空系統(tǒng)”,可以用于真空和可控的均勻加熱以及冷卻循環(huán)條件下的器件或樣片測試。
更新時間:2024-12-20
美nano-master rtp快速退火爐nrt-3500 緊湊型獨立式全自動rtp系統(tǒng)nrt-4000 獨立式全自動rtp系統(tǒng)nrt-4000 獨立式大批量rtp系統(tǒng)nir-4000 獨立式 ibe / rie 雙刻蝕系統(tǒng)nie-3000 臺式 ibe 刻蝕系統(tǒng)nsc-3000可支持多4個靶的dc濺射或rf濺射
更新時間:2024-12-20
美nano-master swc單晶圓清洗系統(tǒng)swc-3000 臺式單晶圓/掩膜版清洗系統(tǒng)swc-4000 立柜式單晶圓/掩膜版清洗系統(tǒng)swc-5000 帶25片cassette 機械手自動清洗nrt-4000 獨
更新時間:2024-12-20
美nano-master 大基片清洗機 large substrate cleaning :lsc-4000 是一款獨立式清洗機，使用計算機控制，大可支持外徑21”的基片。
更新時間:2024-12-20
韓國ecopia 全自動變溫霍爾效應測試儀 hms-5300lth,溫度范圍：80k-573k,測量材料si, sige, sic, gaas, ingaas, inp, gan, tco(including ito),alzno, fecdte, zno 等所有半導體薄膜(p 型和 n 型)；
更新時間:2024-12-20
英國quorum q150t plus 鍍金鍍碳一體機，是一款優(yōu)化設計的帶渦輪分子泵抽真空的鍍膜設備，真空度可達5x10-5mbar。可以濺射具有超細成膜顆粒的易氧化金屬，適用于高分辨率成像。同樣地，低散射可得到均勻而致密的無定形碳膜。
更新時間:2024-12-20
suss蘇斯/休斯，evg, oai等系列光刻機用曝光燈hbo系列，suss蘇斯，evg, oai公司生產(chǎn)的半導體和太陽能行業(yè)用光刻機，目得到業(yè)界的廣泛認同，該系列光刻機曝光系統(tǒng)的曝光燈，主要是由德國歐司朗及日本牛尾公司生產(chǎn)的曝光燈進行配套供應。歐司朗/牛尾曝光燈系列，具備良好的光通量，穩(wěn)定的光強度以及優(yōu)質(zhì)的品質(zhì)受到業(yè)界的青睞。
更新時間:2024-12-20
adlema先進的檢漏機bt4000技 術 規(guī) 格• 尺 寸 :270x200x300mm• 重 量 :8kg• 電 源 輸 入 :24 vdc• 管 徑 :4x2, 6x4, 8x6, 10x8
更新時間:2024-12-20
美國kla insem ht原位高溫納米力學測試系統(tǒng)，納米壓痕儀，樣品加溫可達800 ℃，樣品尺寸可達10mm，裝樣系統(tǒng)與真空環(huán)境兼容
更新時間:2024-12-20
德國iplas mpcvd cyrannus® 利技術微波等離子化學氣相沉積系統(tǒng)，廣泛應用于第四代半導體，射頻器件，散熱器件，光學窗口等高科技令域，晶圓生長金剛石膜，被譽為半導體終材料。
更新時間:2024-12-20
德國sentech光伏測量儀mdpmap，靈活的自動掃描系統(tǒng)，是專為半導體晶片或部分工藝過的晶片的多功能、非接觸和少子壽命測量而設計的。mdpmap能夠連續(xù)地改變激發(fā)脈沖寬度，從非常短的脈沖(100ns)到穩(wěn)態(tài)測量(幾ms)，研究不同深度的缺陷動力學和少子壽命特性。直觀的繪圖軟件適用于有效的常規(guī)測量以及復雜的研發(fā)應用。
更新時間:2024-12-20
100s接觸角測量儀是采用光學成像的原理，通過圖像輪廓分析方式測量樣品表面接觸角、潤濕性能、表界面張力、表面能等性能，設備性價比高、功能全面、可滿足各種常規(guī)測量需要。
更新時間:2024-12-20
德國kruss標準型dsa25接觸角測量儀，接觸角測量范圍：0-180，接觸角測量精度：±0.10，表界面張力測量范圍：0-1000mn/m；測量精度：0.01 mn/m
更新時間:2024-12-20
ure-2000 系列紫外單面光刻機此系列包含六種型號：ure-2000a,ure-2000b,ure-2000/35,ure-2000/35a,ure-2000/25,ure-2000/17
更新時間:2024-12-20
ds-2000/14k 無掩膜單面光刻機，采用 dmd 作為數(shù)字掩模，像素數(shù) 1024×768，采用 14 倍縮小投影光刻物鏡成像。
更新時間:2024-12-20
ds-2000/14g 型無掩模單面光刻機,采用 dmd 作為數(shù)字掩模，像素數(shù) 1024×768 或 1920×1080 或 25601600 三種選配,采用縮小投影光刻物鏡成像，分辨力 1um。
更新時間:2024-12-20
ure-2000/35a 型紫外單面光刻機,,非常適合工廠（效率高，操作傻瓜型，全自動）和高校教學科研（可靠性好，演示方便）采用自動找平，具備真空接觸曝光、硬接觸曝、壓力接觸曝以及接近式曝光四種功能，自動分離對準間隙和消除曝光間隙，采用 350w 進口（德國）直流汞燈，可調(diào)節(jié)光的能量密度。設備外形美觀精制，性能非？煽，自動化程度很高，操作十分方便。
更新時間:2024-12-20
ure-2000/35 型紫外單面光刻機,非常適合工廠（效率高，操作傻瓜型，自動化程度高）和高校教學科研（可靠性好，演示方便）采用自動找平，具備真空接觸曝光、硬接觸曝、壓力接觸曝以及接近式曝光四種功能，自動分離對準間隙和消除曝光間隙，采用 350w 進口（德國）直流汞燈，可調(diào)節(jié)光的能量密度。設備外形美觀精制，性能非？煽，自動化程度很高，操作十分方便。
更新時間:2024-12-20
ure-2000/35l 型紫外單面光刻機,曝光面積：100mm×100mm；分辨力：1.0 μm（膠厚 2.0 μm 的正膠，365nm 波長）
更新時間:2024-12-20
ure-2000/17 型紫外單面光刻機（臺式）,曝光面積：4 英寸,分辨力：1.5μm（膠厚 2 m 的正膠）,對準精度：±1μm
更新時間:2024-12-20
ure-2000/25 型紫外單面光刻機，曝光面積：4 英寸,分辨力：1 μm（膠厚 2 μm的正膠）,對準精度：± 0.8μm
更新時間:2024-12-20
ure-2000s/25 型紫外雙面光刻機，曝光面積：4 英寸，正面對準采用雙目雙視場對準顯微鏡：既可通過目鏡目視對準，也可通過 ccd+顯示器對準，光學合像，光學大倍數(shù) 400 倍，光學+電子放大 800 倍
更新時間:2024-12-20
ure-2000s/b 型紫外雙面光刻機,曝光面積：6 英寸，對準精度：± 2μm （雙面,片厚 0.8mm），± 0.8μm （單面）
更新時間:2024-12-20
ure-2000s/a8 型紫外雙面光刻機, 曝光面積：8 英寸, 曝光波長：365nm： 15mw/cm，405nm：15-30mw/cm2, 對準精度：±2 μm （雙面,片厚 0.8mm）±0.8 μm （單面）
更新時間:2024-12-20
ure-2000s/25s 型雙面光刻機，曝光面積：4 英寸（或 6 英寸），正面對準采用雙目雙視場對準顯微鏡：既可通過目鏡目視對準，也可通過 ccd+顯示器對準，光學合像，光學大倍數(shù) 400 倍，光學+電子放大 800 倍
更新時間:2024-12-20
ure-2000s/35l（a）型紫外雙面光刻機，曝光面積：6 英寸，正面對準采用雙目雙視場對準顯微鏡：既可通過目鏡目視對準，也可通過 ccd+顯示器對準，光學合像，光學大倍數(shù) 400 倍，光學+電子放大 800 倍
更新時間:2024-12-20
ure-2000s/35l（b）型雙面光刻機, 曝光面積：4 英寸, 正面對準采用雙目雙視場對準顯微鏡：既可通過目鏡目視對準，也可通過 ccd+顯示器對準，光學合像，光學 大倍數(shù) 400 倍，光學+電子放大 800 倍
更新時間:2024-12-20
最新產(chǎn)品
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