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本裝置在真空狀態(tài)中對pet film，以ito或metal coating的設備, heating, plasma etching, sputter工序可以.
更新時間:2024-08-15
在高真空環(huán)境中,我們發(fā)明了一種創(chuàng)新的in-line sputter生產技術,實現(xiàn)了高大量生產率和出色的品質。這款1carrier/20sheet(a4 size)產品采用了both side sputtering工藝,不僅提高了生產效率,還確保了優(yōu)異的光學性能,透過率可達25%以上。
更新時間:2024-08-15
propel hvm gan mocvd 系統(tǒng)，用于電源、5g 射頻和光子學，單晶圓反應器技術為電源、5g 射頻和光子學應用提供高效、高質量的氮化鎵基器件
更新時間:2024-08-13
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