有掩模光刻機產(chǎn)品及廠家

織雀™PL-3D Premium 高精密微3D光刻機
織雀™pl-3d premium 是托托科技自主研發(fā)的高精密微3d光刻設(shè)備， 高光學(xué)分辨率可達(dá)1μm，支持大50 mm×50 mm×50 mm的加工尺寸，設(shè)備還支持對準(zhǔn)套刻功能，可在已有結(jié)構(gòu)表面進(jìn)行多材料的駁接打印，在復(fù)雜三維微納結(jié)構(gòu)、高深寬比微納結(jié)構(gòu)以及復(fù)合材料三維微納結(jié)構(gòu)制造方面具有突出的潛能和優(yōu)勢。
更新時間:2024-08-14
織雀™PL-3D 桌面式高精密3D光刻機
織雀™pl-3d 是托托科技自主研發(fā)的桌面式高精密3d光刻設(shè)備，光學(xué)精度達(dá)5μm。在復(fù)雜三維微納結(jié)構(gòu)、高深寬比微納結(jié)構(gòu)以及復(fù)合材料三維微納結(jié)構(gòu)制造方面具有突出的潛能和優(yōu)勢，而且還具有制造周期短、打印成本低、成型精度高、可使用材料種類多、無需掩膜版或模具直接成型的優(yōu)點。
更新時間:2024-08-14
VPG 200 / VPG 400 有掩膜光刻機
vpg 200 / vpg 400 體積圖形發(fā)生器是光刻系統(tǒng)，為 i-line 光刻膠的多用途掩模制造而設(shè)計。它們支持所有標(biāo)準(zhǔn)的中小型面罩尺寸，大尺寸為 410 x 410 mm++2.應(yīng)用包括
更新時間:2024-08-14
MA300 Gen3 掩模對準(zhǔn)光刻機
ma300 gen3 掩模對準(zhǔn)器用于 300 mm 和 200 mm 晶圓的高度自動化掩模對準(zhǔn)平臺suss microtec 的 ma300 gen3 是一款高度自動化的掩模對準(zhǔn)平臺，適用于 300 毫米和 200 毫米晶圓。它為 3d 封裝、晶圓封裝和倒裝芯片應(yīng)用而設(shè)計，但也可用于必須暴露 4 微米和 100 微米幾何形狀范圍的其他技術(shù)。
更新時間:2024-08-13
VPG 800 / VPG 1400 有掩膜光刻機
vpg 800 / vpg 1400 有掩膜光刻機為光掩模（0.8至1.4 m）的高通量圖案化而定制。vpg1400是我們?yōu)轱@示行業(yè)設(shè)計的大的系統(tǒng)。它是平板顯示器 （fpd） 應(yīng)用的好的選擇，例如 tft 陣列、彩色濾光片和 ito。這些工具還用于先進(jìn)封裝、半導(dǎo)體、led 和觸摸屏應(yīng)用的工業(yè)大面積光掩模應(yīng)用。
更新時間:2024-08-13
AP200/300 投影步進(jìn)式光刻機
ap200/300 系列光刻系統(tǒng)基于 veeco 的可定制 unity 平臺™構(gòu)建，可提供卓越的覆蓋層、分辨率和側(cè)壁輪廓性能，并可實現(xiàn)高度自動化和具有成本效益的制造。這些系統(tǒng)特別適用于銅柱、扇出、硅通孔 （tsv） 和硅中介層應(yīng)用。此外，該平臺還具有許多特定于應(yīng)用的產(chǎn)品功能，可實現(xiàn)下一代封裝技術(shù)，例如增強的翹曲晶圓處理、雙面對準(zhǔn)和光學(xué)聚焦
更新時間:2024-08-13
suss microtec公司推出了其下一代投影掃描光刻機‐dsc300投影掃描光刻機。這種有的掃描光刻平臺擁有三位數(shù)的產(chǎn)能，并達(dá)到解析度（< 2 μm）的分辨率，是1x投影光刻系統(tǒng)中生產(chǎn)成本較為低的。
更新時間:2024-08-13
羊用B超機有哪些型號
羊用b超機有哪些型號，羊用b超機檢測山羊懷孕 懷孕的早期檢測是生殖管理的重要方面之一，應(yīng)在動物配種后進(jìn)行。 盡早發(fā)現(xiàn)懷孕可以提供快速的配種成功信息，從而可以實現(xiàn)因不育引起的生產(chǎn)效率，進(jìn)而減少育種計劃的
更新時間:2024-07-12
三相380V變208V、190V變壓器
三相380v變208v、190v變壓器，廣東船用變壓器廠家 船用三相干式變壓器詳詢136-5016-9149
更新時間:2024-04-15

最新產(chǎn)品
熱門儀器： 液相色譜儀 氣相色譜儀 原子熒光光譜儀 可見分光光度計 液質(zhì)聯(lián)用儀 壓力試驗機 酸度計（PH計） 離心機 高速離心機 冷凍離心機 生物顯微鏡 金相顯微鏡 標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì) 生物試劑