光學(xué)測(cè)量?jī)x產(chǎn)品及廠家
設(shè)備的用途：相機(jī)鏡頭焦距、各種光學(xué)零件、部件及光學(xué)系統(tǒng)的像質(zhì)研究及光學(xué)基本量的測(cè)定。
更新時(shí)間:2024-12-23
全自動(dòng)激光檢測(cè)分析儀符合標(biāo)準(zhǔn)《iec60825-1:2007》《gb7247.1-2012》《gb9706.20-2000》,用于醫(yī)療器械中醫(yī)用激光得分類檢測(cè)、激光輻射檢測(cè)、伴隨輻射檢測(cè)、允許照射量檢測(cè)、輻射量檢測(cè)等。采用觸摸屏控制和計(jì)算機(jī)軟件雙操作平臺(tái)，兩者可兼容操作也可獨(dú)立操作。
更新時(shí)間:2024-12-23
西安航天基地信捷iem300紅光治療儀檢測(cè)設(shè)備光譜測(cè)試系統(tǒng)依據(jù)標(biāo)準(zhǔn)yy/t1496-2016、yy0669-2008和yy0901-2013,是一款為光譜治療設(shè)備如紅光治療設(shè)備、嬰兒光治療設(shè)備、紫外治療等設(shè)備光學(xué)性能評(píng)估而設(shè)計(jì)的一款檢測(cè)設(shè)備。
更新時(shí)間:2024-12-23
西安信捷ecr900醫(yī)用內(nèi)窺鏡光學(xué)性能檢測(cè)裝置是我公司依據(jù)標(biāo)準(zhǔn)yy0068.1-2008和yy1298-2016研發(fā)設(shè)計(jì)的一款用于檢測(cè)醫(yī)用內(nèi)窺鏡光學(xué)成像性能的高精度、高效率、多功能、全自動(dòng)的檢測(cè)儀器。
更新時(shí)間:2024-12-23
yy1081-2011西安信捷clt800醫(yī)用內(nèi)窺鏡冷光源檢測(cè)系統(tǒng)產(chǎn)品設(shè)計(jì)依據(jù)醫(yī)藥行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)《yy 1081—2011醫(yī)用內(nèi)窺鏡 內(nèi)窺鏡供給裝置 冷光源》,主要用于
更新時(shí)間:2024-12-23
ecr900醫(yī)用內(nèi)窺鏡光學(xué)性能檢測(cè)儀依據(jù)“yy 0068.1-2008 “醫(yī)用內(nèi)窺鏡 硬性內(nèi)窺鏡 第1部分：光學(xué)性能及測(cè)試方法”標(biāo)準(zhǔn)的測(cè)試要求，用于腹腔鏡、氣管鏡等多種常用內(nèi)窺鏡的光學(xué)性能測(cè)試。適用于內(nèi)窺鏡生產(chǎn)制造廠商對(duì)于產(chǎn)品的品控與設(shè)計(jì)驗(yàn)證，檢測(cè)機(jī)構(gòu)對(duì)于內(nèi)窺鏡產(chǎn)品的質(zhì)檢和監(jiān)督，科研院所對(duì)于內(nèi)窺鏡的科學(xué)研究。
更新時(shí)間:2024-12-23
購買萬濠全自動(dòng)影像測(cè)量?jī)xvms-5040h就來東莞市昊泰測(cè)量?jī)x器有限公司，超值優(yōu)惠！
更新時(shí)間:2024-12-23
aoi可以置于生產(chǎn)線上的多個(gè)位置，但有三個(gè)位子是主要的：1、錫膏印刷之后。將aoi的檢測(cè)放在錫膏印刷機(jī)之后，這是個(gè)典型的放置位置，因?yàn)楹芏嗳毕菔怯捎阱a膏印刷的不良所造成的，如錫膏量不足可能會(huì)導(dǎo)致元件丟失或開路的原因。2、回流焊，將檢測(cè)設(shè)備放置于貼片后
更新時(shí)間:2024-12-21
電子除塵箱，可分水平送風(fēng)和垂直送風(fēng)兩大類。電子除塵箱采用初效過濾器和高效過濾器對(duì)進(jìn)入操作區(qū)的空氣進(jìn)行兩過濾，可使工作區(qū)域的潔凈度達(dá)到10、100。整體結(jié)構(gòu)緊湊，外形美觀，箱體全鋼結(jié)構(gòu)噴塑，操作臺(tái)面采用不銹鋼材質(zhì)制造而成，經(jīng)久耐用？赏饨痈呒兊?dú)，氮(dú)膺^濾組，使用萬向管進(jìn)行定位吹掃。可選配自動(dòng)選轉(zhuǎn)器（可正反轉(zhuǎn)動(dòng)），便于均勻選轉(zhuǎn)。
更新時(shí)間:2024-12-21
日本rion粒子計(jì)數(shù)器kc-01e ( 光散射法）,液體粒子計(jì)數(shù)器，測(cè)試粒徑（5個(gè)通道）：≥0.3μm， ≥0.5μm ， ≥1μm ， ≥2μm， ≥5μm
更新時(shí)間:2024-12-20
日本rion粒子計(jì)數(shù)器kc-03b ( 光散射法）,測(cè)試粒徑（5個(gè)通道）：≥0.3μm， ≥0.5μm ， ≥1μm ， ≥2μm， ≥5μm
更新時(shí)間:2024-12-20
lfa 467 hyperflash 閃射法導(dǎo)熱儀，自由選擇測(cè)試氣氛，優(yōu)化結(jié)構(gòu)設(shè)置與閃射光源，16位自動(dòng)進(jìn)樣器，高的測(cè)量效率，寬廣的溫度范圍，靈活配備冷卻系統(tǒng)，設(shè)計(jì)獨(dú)特，性能優(yōu)異，配備氙燈光源的，高溫測(cè)試系統(tǒng)，寬廣的溫度范圍，真空密閉爐體，確保氣氛純凈，防止氧化，內(nèi)置微型管式爐，更高的測(cè)量效率，高數(shù)據(jù)采集速率- 用于薄膜與高導(dǎo)熱材料的解決方案
更新時(shí)間:2024-12-20
oai is a world leader in uv liight & energy measurement instrumentation used for reliable accurate calibrated control of the hotolithography processes in the semiconductor
更新時(shí)間:2024-12-20
美國泰克tek keithley半導(dǎo)體參數(shù)分析儀4200a-scs ，加快半導(dǎo)體設(shè)備、材料和工藝開發(fā)的探索、可靠性和故障分析研究。 業(yè)內(nèi)領(lǐng)先性能參數(shù)分析儀，提供同步電流-電壓 (i-v)、電容-電壓 (c-v) 和超快脈沖 i-v 測(cè)量。
更新時(shí)間:2024-12-20
瑞士nanosurf 原子力顯微鏡coreafm ，非常智能地聯(lián)合了原子力顯微鏡的核心部件來實(shí)現(xiàn)最多功能化與用戶方便使用性. 正是由于這種基礎(chǔ)的設(shè)計(jì), coreafm非常合理的實(shí)現(xiàn)了最優(yōu)化的原子力顯微鏡的功能.
更新時(shí)間:2024-12-20
韓國ecopia霍爾效應(yīng)測(cè)量系統(tǒng)hms3000，hms5000，用于研究半導(dǎo)體材料/光電材料的電學(xué)特性，可以測(cè)量材料在不同溫度、磁場(chǎng)下的載流子濃度、遷移率、電阻率、霍爾系數(shù)及載流子類型。
更新時(shí)間:2024-12-20
美國 mmr 霍爾效應(yīng)測(cè)量系統(tǒng) h5000，用于研究光電材料的電學(xué)特性，利用范德堡測(cè)量技術(shù)測(cè)量材料在不同溫度、磁場(chǎng)下的載流子濃度、遷移率、電阻率、霍爾系數(shù)及載流子類型。整套系統(tǒng)主要包括控制器、樣品室、磁場(chǎng)三部分。
更新時(shí)間:2024-12-20
半導(dǎo)體測(cè)試探針臺(tái)kup007，emp100c，emp100b，emp50s
更新時(shí)間:2024-12-20
德國mecwins 掃描式激光分析儀scala，它是用激光入射掃描樣品表面，收集反射信號(hào)得到樣品表面的三維形貌和特征。
更新時(shí)間:2024-12-20
美國nanovea三維表面形貌儀hs1000型，是一款高速的三維形貌儀，最高掃描速度可達(dá)1m/s,采用國際領(lǐng)先的白光共聚焦技術(shù)，可實(shí)現(xiàn)對(duì)材料表面從納米到毫米量級(jí)的粗糙度測(cè)試，具有測(cè)量精度高，速度快，重復(fù)性好的優(yōu)點(diǎn)，該儀器可用于測(cè)量大尺寸樣品或質(zhì)檢現(xiàn)場(chǎng)使用。
更新時(shí)間:2024-12-20
德國 yxlon 高分辨率ｘ射線檢測(cè)設(shè)備 y.cougar smt 平板探測(cè)器（標(biāo)配） y.cheetah 高速平板探測(cè)器（標(biāo)配）
更新時(shí)間:2024-12-20
美國royec芯片拾取及放置系統(tǒng)die pick & place systems,new !! ap+ 全自動(dòng)芯片分選系統(tǒng)
更新時(shí)間:2024-12-20
美國royec半自動(dòng)型芯片拾取系統(tǒng)de35-st ,最小200微米芯片拾取,可選配背面，側(cè)面檢測(cè),可選配芯片轉(zhuǎn)向功能.
更新時(shí)間:2024-12-20
美國rti自動(dòng)特性圖示儀 mt century curve tracer，是一個(gè)性價(jià)比較高的曲線追蹤設(shè)備。最多到96個(gè)channel，提供4種型號(hào)可供客戶選擇，mt century curve tracer 與rti其他大型curve trace擁有一樣的可靠性，功率和軟件。像其他rti機(jī)型一樣，mt century系統(tǒng)的設(shè)計(jì)有與950系列的測(cè)試夾具及其它專用夾具連接的接口。
更新時(shí)間:2024-12-20
德國klocke nanotech納米級(jí)三維測(cè)量?jī)x3d nanofinger，是一種實(shí)用的納米精度坐標(biāo)和形貌綜合測(cè)量設(shè)備。由臺(tái)架、控制系統(tǒng)、探頭、針尖組成. 可測(cè)量樣品外形尺寸，表面輪廓、粗糙度等，并可與超精密微加工、微組裝系統(tǒng)組合，進(jìn)行在線檢測(cè)、質(zhì)量控制等。
更新時(shí)間:2024-12-20
日本a&d粒子計(jì)數(shù)器（粒度計(jì)）sv-1a,是使用點(diǎn)監(jiān)測(cè)的低成本替代設(shè)備,計(jì)數(shù)值高達(dá)2,000,000個(gè)粒子/ft.
更新時(shí)間:2024-12-20
美國filmetrics 薄膜厚度測(cè)量系統(tǒng)f20，f30，f40，f50，f60，f3-xxt 系列，臺(tái)式薄膜厚度測(cè)量系統(tǒng)
更新時(shí)間:2024-12-20
美國 sonix 超聲波掃描顯微鏡:echo-vs, echo pro™全自動(dòng)超聲波掃瞄顯微鏡,sonix echo vs™ 是專為更高精度要求，更復(fù)雜元器件設(shè)計(jì)的新一代設(shè)備。echo pro™全自動(dòng)超聲波掃瞄顯微鏡,編程自動(dòng)判別缺陷,高產(chǎn)量,無需人員重復(fù)設(shè)置.
更新時(shí)間:2024-12-20
德國bruker傅氏轉(zhuǎn)換紅外光譜儀ftir -利用紅外線光譜經(jīng)傅利葉轉(zhuǎn)換進(jìn)而分析雜質(zhì)濃度的光譜分析儀器。
更新時(shí)間:2024-12-20
德國bruker ft-nir光譜儀tango,mpa,matrix-i.ft-nir光譜儀已經(jīng)在包括制藥，食品，農(nóng)業(yè)和化學(xué)行業(yè)在內(nèi)的所有行業(yè)的質(zhì)量控制應(yīng)用中得到了很好的應(yīng)用。它為耗時(shí)的濕法化學(xué)方法和色譜技術(shù)提供了一種實(shí)用的替代方法。ft-nir無破壞性，不需要樣品制備或危險(xiǎn)化學(xué)品，使其定量和定性分析快速可靠。
更新時(shí)間:2024-12-20
德bruker光學(xué)輪廓儀contorugt-表面量測(cè)系統(tǒng)-供生產(chǎn)qc/qa及研發(fā)研用的非接解觸型光學(xué)輪廓儀
更新時(shí)間:2024-12-20
sentech ald實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)儀是一種新型的光學(xué)診斷工具，是心靈超高分辨率的單一ald循環(huán)。在不破壞真空的條件下分析薄膜特性(生長速率，厚度，折射率)，在短時(shí)間內(nèi)開發(fā)新工藝、實(shí)時(shí)研究ald循環(huán)中的反應(yīng)機(jī)理是sentech ald實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)儀的主要應(yīng)用。
更新時(shí)間:2024-12-20
美國ogp光學(xué)式坐標(biāo)測(cè)量?jī)x zip 250 ，5:1 accucentric 電動(dòng)變焦透鏡，在每次放大變倍時(shí)自動(dòng)校準(zhǔn)，可選配接觸式探頭、激光和微型探針。
更新時(shí)間:2024-12-20
jy—pha接觸角測(cè)定儀，用于液體對(duì)固體的浸潤性，通過測(cè)量液體對(duì)固體的接觸角、計(jì)算、測(cè)定液體對(duì)固體的附著力，張力及固體表面能等指標(biāo)。
更新時(shí)間:2024-12-20
100標(biāo)準(zhǔn)型接觸角測(cè)量?jī)x，采用高性能日本原裝進(jìn)口工業(yè)機(jī)芯，工業(yè)級(jí)連續(xù)變倍顯微鏡，確保圖像的真實(shí)性，獲取最佳的成像效果。
更新時(shí)間:2024-12-20
美associated 耐壓測(cè)試儀hypotmax 7710 ，是一款12 kvdc hipot測(cè)試儀，用于為電纜、電線、線束和電氣元件測(cè)試提供高直流輸出電壓。該產(chǎn)品非常易于使用，并為安全有效的測(cè)試提供了各種特性。它有專利smartgfi®操作,它還包括電荷lo®和斜坡嗨®系統(tǒng)。最后，該系統(tǒng)具有遠(yuǎn)程安全聯(lián)鎖和數(shù)控電弧檢測(cè)系統(tǒng)。
更新時(shí)間:2024-12-20
montana 新型超精細(xì)多功能無液氦低溫光學(xué)恒溫器完全擺脫了液氦。完全閉循環(huán)的制冷系統(tǒng)只需要極少量的氦氣即可讓系統(tǒng)達(dá)到極限低溫。系統(tǒng)具有超快降溫、超低震動(dòng)和超高的溫度穩(wěn)定性。全自動(dòng)化的控制軟件，簡(jiǎn)化了用戶的操作流程。
更新時(shí)間:2024-12-20
德國attocube磁共振顯微鏡/低溫強(qiáng)磁場(chǎng)磁共振顯微鏡attocsfm,完美集成了由完全無磁性材料制備的高數(shù)值孔徑（na）共聚焦顯微鏡與原子力顯微鏡來滿足odmr實(shí)驗(yàn)的需求。
更新時(shí)間:2024-12-20
sinton少子壽命測(cè)試儀wct-120，suns-voc，硅片少子壽命測(cè)試系統(tǒng)，采用了獨(dú)特的測(cè)量和分析技術(shù)，包括準(zhǔn)穩(wěn)定態(tài)光電導(dǎo)(qsspc)測(cè)量方法？伸`敏地反映單、多晶硅片的重金屬污染及陷阱效應(yīng),表面復(fù)合效應(yīng)等缺陷情況。
更新時(shí)間:2024-12-20
布魯克bruker白光干涉光學(xué)輪廓儀 contour x, 滿足微納米表面測(cè)量需要
更新時(shí)間:2024-12-20
布魯克bruker contourx-200 三維光學(xué)輪廓儀，靈活的臺(tái)式表面形貌測(cè)量設(shè)備
更新時(shí)間:2024-12-20
布魯克 dektakxt 臺(tái)階儀（探針式表面輪廓儀）設(shè)計(jì)創(chuàng)新，實(shí)現(xiàn)了更高的重復(fù)性和分辨率，垂直高度重復(fù)性高達(dá) 5å。第十代 dektakxt臺(tái)階儀（探針式表面輪廓儀）的技術(shù)突破，實(shí)現(xiàn)了納米尺度的表面輪廓測(cè)量，從而可以廣泛的應(yīng)用于微電子器件，半導(dǎo)體，電池，高亮度發(fā)光二管的研發(fā)以及材料科學(xué)域。
更新時(shí)間:2024-12-20
日本rion液體光學(xué)顆粒度儀ks-41b，可檢測(cè)光阻產(chǎn)品、sog 等產(chǎn)品中 0.1um 的顆粒。
更新時(shí)間:2024-12-20
日本rion液體光學(xué)顆粒度儀ks-19f,寬廣的測(cè)試范圍，可測(cè)試 0.03~0.13um 之間的顆粒只需要小小的樣品取樣量就可以得到高效率高精準(zhǔn)的顆粒數(shù)據(jù)。
更新時(shí)間:2024-12-20
美az 總輻射度/太陽能吸收率(tesa)便攜式反射計(jì) tesa 2000，根據(jù)astm e408測(cè)定熱發(fā)射率和空氣質(zhì)量為零時(shí)的太陽吸收率(空間應(yīng)用)。它緊湊，輕巧，堅(jiān)固耐用，符合人體工程學(xué)設(shè)計(jì)，便于在野外或?qū)嶒?yàn)室中使用。
更新時(shí)間:2024-12-20
日本rion氣體粒子計(jì)數(shù)器：kl-28b/28bf( 光散射法）,粒徑范圍（2個(gè)通道）：≥0.2μm， ≥0.5μm, 大粒子數(shù)濃度：1 200 顆/l （誤差值低于5%）
更新時(shí)間:2024-12-20
日本rion 液體光學(xué)顆粒度儀：ks-16/16f ( 光散射法）, 大粒子數(shù)濃度：1 200 顆/l （誤差值低于5%）, 粒徑范圍（5個(gè)通道）：≥0.1μm， ≥0.15μm ， ≥0.2μm ， ≥0.3μm, ≥0.5μm
更新時(shí)間:2024-12-20
日本rion 液體光學(xué)顆粒度儀：ks-17b ( 光散射法）,純水用，大粒子數(shù)濃度：100 000 顆/ml （誤差值低于5%），粒徑范圍（2個(gè)通道）：≥0.05μm， ≥0.1μm （4通道需工廠定制）
更新時(shí)間:2024-12-20
日本理音rion液體光學(xué)顆粒度儀ks-19f，寬廣的測(cè)試范圍，可測(cè)試 0.03~0.13um 之間的顆粒只需要小小的樣品取樣量就可以得到高效率高精準(zhǔn)的顆粒數(shù)據(jù)。
更新時(shí)間:2024-12-20
最新產(chǎn)品
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