其他產(chǎn)品及廠家
真空系統(tǒng)：由機械泵、充氣閥、放氣閥、真空閥，真空壓力表、波紋管、真空管路和支架等組成。
更新時間:2024-12-20
雙層304不銹鋼水冷結(jié)構(gòu)真空熱壓燒結(jié)爐材料高溫熱成型-加熱保溫及測溫系統(tǒng):加熱系統(tǒng)采用國產(chǎn)電阻絲，保*了溫度均勻性。保溫材料采用國產(chǎn)爐膛材料，不掉粉、材料保溫性能好、反射率高、溫場均衡，抗熱漲冷縮能力強。采用可控硅控溫，配置有pid功能儀表，數(shù)顯表，具有超溫聲光報警功能，也可選用plc觸摸屏自動控制，并保留歷史數(shù)據(jù)，便于分析燒結(jié)過程。
更新時間:2024-12-20
快速熱處理退火爐，半導體rtp快速退火爐為我公司根據(jù)客戶需求業(yè)定制的熱處理設(shè)備，半導體rtp快速退火爐主要用于：快速燒結(jié)、快速退火等工藝。具有：溫度均勻、控制穩(wěn)定等特點，觸摸屏操作方式（設(shè)備小巧，節(jié)約空間）。
更新時間:2024-12-20
晶圓退火烤箱，500度退火氮氣烘箱所述多個區(qū)域在每個所述升溫階段中的溫度不同;對所述多個區(qū)域進行保溫處理;對多個區(qū)域采用氮氣保護，該氮氣烘箱采用輔助降溫方式進行降溫處理。
更新時間:2024-12-20
鼓風式真空烘箱，真空鼓風干燥箱用于半導體/電子/新材料/新能源等行業(yè)。bcb、pi、pbo膠固化，lcp新材料、鋰電池等產(chǎn)品熱處理及其他物質(zhì)的加速干燥。
更新時間:2024-12-20
hmds增粘裝置，涂敷hmds增粘劑的裝置通過對箱體內(nèi)預處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數(shù)的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層hmds，增加了hmds處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。
更新時間:2024-12-20
快速熱處理退火爐，半導體rtp快速退火爐為我公司根據(jù)客戶需求業(yè)定制的熱處理設(shè)備，半導體rtp快速退火爐主要用于：快速燒結(jié)、快速退火等工藝。具有：溫度均勻、控制穩(wěn)定等特點，觸摸屏操作方式（設(shè)備小巧，節(jié)約空間）。
更新時間:2024-12-20
hmds增粘裝置，涂敷hmds增粘劑的裝置通過對箱體內(nèi)預處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數(shù)的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層hmds，增加了hmds處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。
更新時間:2024-12-20
無塵高溫氮氣烤箱,500度充氮厭氧烘箱定制，氮氣烤箱應用于精密電子元件、pi、bcb膠高溫固化烘烤、銀膠固化、光刻膠固化、電子陶瓷材料無塵烘干的特殊工藝要求，適用于觸摸屏、晶圓、led、pcb板、ito玻璃等精密電子、太陽能、新材料等行業(yè).
更新時間:2024-12-20
鼓風式真空烘箱，真空鼓風干燥箱用于半導體/電子/新材料/新能源等行業(yè)。bcb、pi、pbo膠固化，lcp新材料、鋰電池等產(chǎn)品熱處理及其他物質(zhì)的加速干燥。
更新時間:2024-12-20
pi烘箱，厭氧烘箱室溫至150℃時，主要為氧元素、水分的脫除；150℃至320℃時，主要是薄膜內(nèi)殘余溶劑的揮發(fā)，同時發(fā)生脫水環(huán)化。
更新時間:2024-12-20
智能黑蒜設(shè)備，快速加工黑蒜機適用于黑蒜發(fā)酵，黑蒜加工或黑蒜試驗，家用黑蒜制作。發(fā)酵黑蒜周期短，黑蒜成品率高，口感好。
更新時間:2024-12-20
最新產(chǎn)品
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