德國新帕泰克將參展9月27-29日上海IPB2010國際粉體展

發(fā)布時間：2010/9/29 10:38:18 來源：阿儀網(wǎng) 已有16082人關(guān)注

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IPB 2010 第八屆國際粉體工業(yè)/散裝技術(shù)展覽會暨會議

    時間：2010年9月27-29日
    地點：上海國際展覽中心
    地址：上海市興義路77號

公司展位號1118，屆時將攜最新R系列干法激光粒度儀HELOS/RODOS（測試范圍0.1-3500μm）、動態(tài)粒度粒形分析儀QICPIC（測試范圍1-20000μm）、納米激光粒度儀NANOPHOX（測試范圍1-10000nm）、超聲衰減粒度儀OPUS（0.01-3000μm），并有中國工程師在現(xiàn)場為您做專業(yè)的介紹與解答。

德國新帕泰克專利的干法粒度儀HELOS/RODOS，以其“干樣干測”、“瞬時分散，瞬時測量”的優(yōu)勢，廣泛以用于粉體行業(yè)的粒度分析與測量，具有分散效果好、測試速度快、準(zhǔn)確性與精度高等優(yōu)點。

動態(tài)粒度粒形儀QICPIC在分析粒度分布信息的基礎(chǔ)上，提供粒形信息，為以顆粒形態(tài)為表征的行業(yè)與分析研究院提供了包括球形度、長寬比、纖維長度等更多參數(shù)的信息。

納米粒度儀NANOPHOX使用PCCS的原理，消除多重散射的影響，測試濃度高，準(zhǔn)確性好，同時提供穩(wěn)定性分析，是分析納米粉體的最佳選擇。

展會動態(tài)